Osstem SOI – Keinojuuren pinnan uusi sukupolvi
Osstem SOI (lyhenne sanoista Super Osseointegration) edustaa keinojuurten pintojen uusinta kehitystä, joka on suunniteltu optimoimaan luutumisen ensihetket. Teknologia perustuu hiekkapuhallettuun ja happoetsattuun pintaan, jota on muokattu kahdella tavalla: tyhjiössä tehdyllä UV-valokäsittelyllä sekä suojaavalla puskuriaineella.
Pinnan valmistelu ja suojaus
UV-valokäsittely tyhjiössä (VUV): Titaanin pinnalle kertyy ajan myötä ilmasta hiilivetyjä, mikä tekee pinnasta vettä hylkivän ja heikentää sen kykyä tarttua soluihin. Tyhjiössä tehty UV-säteily hajottaa nämä epäpuhtaudet, jolloin pinnasta tulee erittäin vesihakuinen.
Puskuroitu pinnoite: Jotta UV-käsittelyn hyödyt säilyisivät, pinta on suojattu puskuriaineella (HEPES), joka estää lian tarttumisen uudelleen ja pitää pinnan käyttövalmiina kuivassa pakkauksessa.
Biokemiallinen reaktio leikkausalueella
Kun keinojuuri asennetaan, se vaikuttaa välittömästi ympäröivään kudokseen:
Veren valkuaisaineet: Erittäin vesihakuinen pinta saa aikaan imuilmiön, joka vetää verta ja valkuaisaineita (kuten fibronektiiniä) puoleensa jopa 130 kertaa tehokkaammin kuin perinteiset pinnat.
Hyytymisverkon muodostuminen: Pinta edistää nopean ja tiheän hyytymisverkon (fibriiniverkon) syntymistä. Tämä verkko toimii rakennustelineenä, jota pitkin luunmuodostajasolut liikkuvat ja lisääntyvät.
Happamuuden hallinta: Leikkaus aiheuttaa kudoksessa paikallista happamuutta (asidoosia), mikä voi aktivoida luunsyöjäsoluja ja johtaa luun vähenemiseen. SOI-pinnan sisältämä puskuriaine palauttaa ympäristön luonnolliseen tasapainoon (pH ~7,3–7,4), mikä tukee luunmuodostajien työtä ja hillitsee luun katoamista.
Kliiniset hyödyt hoidossa
Nopeampi paraneminen: SOI-pinnan ansiosta paranemisaika on yli 35 % lyhyempi perinteisiin pintoihin verrattuna. Luuhun kiinnittyminen tapahtuu usein jo 2–4 viikossa, kun vanhemmilla menetelmillä tähän kuluu 6–8 viikkoa.
Vakauden turvaaminen: Menetelmä minimoi kriittisen vaiheen, jossa implantin alkuperäinen tiukkuus löystyy ennen kuin uusi luu on kasvanut tilalle. Tämä mahdollistaa hampaalla puremisen (varhaisen kuormituksen) usein jo 4–8 viikon kuluttua.
Varmuus haastavissa tilanteissa: Tekniikka tuo lisäturvaa, jos potilaalla on heikko luunlaatu, on tehty poskiontelon pohjan nosto tai jos taustalla on hampaiden kiinnityskudossairaus.
Osstem SOI-pintainen hammasimplantti ei ole vain passiivinen osa leukaluussa, vaan aktiivinen tekijä, joka ohjaa luun paranemista ja tekee implanttihoidosta nopeamman sekä lopputuloksesta varmemman.
Yhteenveto
Osstem TSIII SOI edustaa uuden sukupolven biomateriaalikemiaa: se yhdistää UV-valokäsittelyn ja implantin pintaa suojaavan HEPES-pinnoitteen. Se ei ole passiivinen pinta, vaan aktiivinen biokemiallinen komponentti, joka ohjaa paranemista. SOI tarjoaa lisäturvaa haastavissa tapauksissa (välitön implantointi, luunsiirteet, metabolisesti kompromisoituneet potilaat, periodontiittitausta) ennustettavammalla vasteella ja nopeammalla siirtymällä mekaanisesta kiinnittymisestä biologiseen integraatioon. Kirjallisuusviitteet ja jatkolukemisto (päivitetty 2026):
- Pae HC et al. (2019). Bioactive characteristics of an implant surface coated with a pH buffering agent. J Periodontal Implant Sci.
- Park JW et al. (2020). Coating of a Sand-Blasted and Acid-Etched Implant Surface with a pH-Buffering Agent after Vacuum-UV Photofunctionalization. Coatings.
- Osstem Implant (2025). AEEDC Dubai & EuroPerio11: Fourth-generation SOI surface technology (Dental Tribune, viralliset materiaalit).
- Osstem R&D: Prekliiniset tutkimukset SOI:n bioaktiivisuudesta, fibriiniverkosta ja varhaisesta osseointegrationista (micropig-mallit, 2015–2025).
- Multicentre RCT (2025 follow-up): Early-loaded TSIII SOI vs. SA – survival ja ISQ-arvot.
Lataa artikkeli
Coating of a Sand-Blasted and Acid-EtchedImplant Surface with a pH-Buffering Agent
after Vacuum-UV Photofunctionalization
MDPI Published: 28 October 2020
Lataa artikkeli pdf
Lataa tutkimus
Bioactive characteristics of an implant surface coated with a pH buffering agent: an in vitro studyJ Periodontal Implant Sci. 2019 Dec;49(6):366-381
https://doi.org/10.5051/jpis.2019.49.6.366
pISSN 2093-2278·eISSN 2093-2286
Lataa tutkimus pdf
(Artikkelin kirjoittamisessa ja käännöksissä käytetty AI-työkaluja.)